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中芯国际距离国产7nm芯片更近一步

原标题:中芯国际距离国产7nm芯片更近一步 来源:电子发烧友

中芯国际发布公告,公司同阿斯麦上海在今年2月1日签订经修订和重述的ASML批量采购协议。

据悉,该协议与DUV光刻技术的现有协议相关,订单总代价为12.16亿美元。

荷兰ASML兑现承诺

此次协议的达成,表示ASML兑现了此前许下的承诺。

2020年,ASML曾多次向中国客户示好,显现出希望加大双方合作的意向。

2020年10月份,ASML首席财务官罗杰·达森回答“向中国出口光刻机”问题时表示,ASML可从荷兰直接向中国出口DUV光刻机,而不受美国的限制。

在2020年11月举行的中国进口博览会上,ASML也在参展行列,并展示了DUV光刻机。

ASML中国区总裁沈波表示,公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度,对全球客户一视同仁。

ASML的种种言行都透露出,ASML想同中国企业加大合作的愿望。而在如今,ASML也兑现了承诺,将DUV光刻机卖给中芯国际。

DUV光刻机与EUV光刻机

不过,对于更高端的EUV光刻机,ASML却始终没有松口。

DUV光刻机与EUV光刻机在光源、光路系统等方面有所差距,造成了二者在分辨率上的不同。

DUV光刻机采用了准分子激光作为光源,为193nm波长的光源。

而EUV光刻机则利用激光激发等离子发射EUV光子,原理更为复杂,获取条件也更苛刻。不过,EUV光刻机的波长也更短,仅为13.5nm。

在光路系统方面,DUV光刻机主要利用的光的折射、透镜与晶圆之间使用不同介质可改变光刻性能的特点。

而EUV光刻机则利用了光的反射原理,且对环境的要求更为严格,需要真空操作。

尽管EUV光刻机各方面都更为复杂,但却能带来更高的分辨率。想要攻克5nm、3nm,离不开EUV光刻机的帮助。

因而,为抢占更多的市场,三星、台积电都在争抢更多的EUV光刻机。

虽然ASML本次出售给中芯国际的并非EUV光刻机,令人有些失望。但在DUV光刻机的实力也不同小觑,足以生产出7nm芯片。

国产7nm不再遥远

在ASMLDUV光刻机的助力下,中芯国际离7nm更近了一步。

据悉,在今年4月份,中芯国际7nm将进入风险量产阶段。一旦成功,中国芯片自给率无疑将再前进一步。

同时,更多DUV光刻机也将助力中芯国际进一步扩产。在全球缺芯危机蔓延的情况下,中芯国际将成为危机的受益者。

责任编辑:tzh

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